企037
信越化学工業
- 国
日本
- 上場
- 証券コード 4063
- 設立
- 1926年
- 本社
- 東京都千代田区
事業内容
シリコンウエハーで世界トップ級の地位を持つだけでなく、EUV/ArFフォトレジスト、マスクブランクスなど半導体の微細化を支える材料を横断的に展開する。直近ではAI半導体需要を見据え、約830億円を投じた群馬・伊勢崎の半導体露光材料新工場を稼働させ、供給能力を増強。さらにAIデータセンターの省電力化に向け、300mmのGaN用QST™基板の実用化・量産を進める。
SUMCOがシリコンウエハーへの集中度が高いのに対し、信越化学はウエハー+露光材料+封止・放熱材料+次世代GaN基板まで持つ「半導体材料の総合力」が特徴。AI半導体の製造だけでなく、電力効率・冷却まで材料側から成長を取り込める点が強み
注目する理由
世界トップ級のシリコンウエハーに加え、EUV材料から次世代GaN基板まで持つ点が特異性。半導体の進化を「材料」で広範囲に支えられる総合力が強み
出典 shinetsu.co.jp
最終更新:2026年10月7日
最終更新:2026年10月7日